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[新聞] 半導體“2納米戰爭”……韓美日等的生存
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半導體“2納米戰爭”……韓美日等的生存之戰
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27日(當地時間),三星電子在“三星晶圓代工論壇2023”上發表詳細發表各產品群的2
納米量產計劃,可以解釋為已經確保了主要客戶公司。三星電子以Gate All Around(GAA
‧全環繞柵極晶體管)晶體管技術為基礎的超細微工藝,與臺灣TSMC(臺積電)等不同。
● 三星推出GAA工藝,有望超越TSMC
三星電子半導體(DS)部門負責人(社長)桂京賢最近表示:“顧客對GAA的反應非常好
”,“雖然不能提及顧客公司的名字,但幾乎所有值得了解的企業都在壹起工作。”三星
電子會長李在也在今年上半年(1~6月)接連會見了特斯拉首席執行官(CEO)埃隆‧馬
斯克、英偉達(NVDA)CEO黃仁勛等,啟動了全球網絡。
在全球晶圓代工(半導體委托生產)戰爭中,後起之秀三星電子今年第壹季度(1~3月)
的占有率僅為12%左右。雖然位居世界第二,與占有率超過60%的臺灣TSMC的差距太大。三
星電子將新壹代革新技術GAA作為新的武器。GAA是繼現有的“FinFET(鰭式場效應晶體管
)”之後出現的新壹代晶體管結構,與FinFET工藝相比,可以提高數據處理速度和電力效
率等。三星電子在去年6月批量生產3納米產品時,在世界上首次使用了GAA工藝。去年下
半年(7~12月)開始批量生產3納米產品的TSMC采用了現有的FinFET工藝,選擇首先確保
穩定的投入產出比率。
對此,很多人評價說,在3納米初期的投入產出率競爭和顧客公司確保戰中,三星電子落
後於TSMC。但也有分析認為,如果TSMC首次使用2納米工藝,那麽積累量產經驗的三星將
更有利。景社長在上個月的KAIST演講中表示:“目前三星電子的4納米技術力比TSMC落後
2年,3納米技術落後1年左右”,“而壹旦TSMC使用2納米工藝,情況會發生轉變。三星有
望在5年內超過TSMC。”
● 天文數字般的設備投資競爭非常激烈
設備投資競爭也非常激烈。三星電子正在投資170億美元(約22.2萬億韓元)的美國得克
薩斯州泰勒市代工工廠和京畿平澤市代工新生產線將展開“框架優先”速度戰。其戰略是
,先從生產線進駐的凈化室開始建設,確保空間後,根據今後的市場需求投入設備。因此
,三星電子在2027年擁有的全部凈化室規模將是2021年的7.3倍。今年3月三星發表了20年
內在龍仁市投資300萬億韓元構建世界最大規模的系統半導體集群的計劃,27日與政府壹
起決定將集群工程時間從7年縮短到5年,縮短2年。
TSMC也在向尖端晶圓代工新工廠投入巨額資金。在美國亞利桑那州投資400億美元建設2個
代工廠的同時,在日本熊本也建設86億美元規模的新工廠。此外,熊本第二工廠、德國德
累斯頓工廠等也在討論之中。而晶圓代工後起之秀英特爾也接連在美國和歐洲等主要地區
發表以萬億為單位的新工廠計劃。
在“2納米工藝”時代即將到來之際,國家間、企業之間展開沒有硝煙的戰爭是因為晶圓
代工,其中5納米以下的尖端工藝是承諾高增長的未來核心市場。28日,據市場調查機構
Omdia透露,從今年開始到2026年為止,如果全世界半導體市場年均增長9.1%,晶圓代工
市場將增長12.9%。5納米以下的尖端工藝銷售額有望年均增長34.8%。據推算,以2026年
為基準,整個代工市場將達到1879億美元(約245.7萬億韓元),而5納米以下市場將達到
645億美元。
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