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看板Tech_Job
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Re: [請益] 日本一直把持光阻劑市場?

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最新2022-12-08 13:23:00
留言81則留言,13人參與討論
推噓10 ( 10071 )
光阻Photoresist就是照光會反應的材料,沒什麼困難的概念 在半導體上從低階到高階都會有,現在日本市佔大的就高階的光阻 大概佔90%以上,都是信越 JSR TOK 富士軟片跟住友占走 最高階的EUV光阻,信越跟JSR跑在前面。 日本的有機合成經驗多,且材料純度高,做食品或味素的公司做電子 材料也可以賣很好。然後早起就進入光反應樹脂的市場,累積大量開發 與合成經驗當然越走越遠,專利也越寫越多 不過現在光阻的基礎骨幹結構與配方都寫在Paper上,也不是甚麼新東西 材料現在有用MI在模擬,配方與結構遲早被摸出來。 剩下只有繞過專利惹,如果不理專利的話應該難度不會太高。 但是當然會不會只有配方這麼簡單,每個layer的特性都要做調整 差幾奈米的pattern效能天差地遠。 除了配方以外,量產與純化標準都高到不行,雜質含量也是0後面好幾個0的程度 量產製造的與純化要達到這個要求,know how也是很多,連環境也要高等的無塵室才行。 這些也是提早進入市場所累積出來的經驗,現在EUV的技術與貨物出口都要經過日本政府 審查同意,連開發人員都要身家調查才給摸,拿來當貿易武器的東西真的不一樣。 最後,最重要的是,要有FAB給你測,晶片製造商很難讓一個沒有經驗與信賴性的 原料供應商測光阻,不知道品質與量產能力,還沒有實績;如現在EUV的測試因為材料 供應商沒有EUV的tool,只能給有tool的客戶或是實驗室測,整個拉長了開發時間;如果 有新來的供應商應該沒甚麼空間能夠生存。 所以自然就只剩下這些供應商存在了。 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 101.102.210.72 (日本) ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1670385914.A.EE6.html

Re: 回文串

81 則留言

sc1, 1F
做晶圓代工有產業升級條例晶片法政策補貼 光阻液無

sc1, 2F
日系都是Vendor代理;理工科系進產線三寶是大宗

abyssa1, 4F
這個事件應該會讓後進者門檻又拉高

cityhunter04, 5F
別那麼認真回廢文好嘛

magamanzero, 6F
認真的話 上次GG有個材料發生問題的事件 可以看看

magamanzero, 7F
那會影響良率很嚴重的

odahawk, 8F
主管一句話「換了之後出問題誰負責」就不會有人試了

daredwolf, 9F
推拉

faniour, 10F
開頭的邏輯,跟EUV就是比較短波的光,沒什麼困難的

faniour, 11F
概念有什麼兩樣

faniour, 12F
根本也不用什麼ML, 你要有評估機台的話平常做的DOE

faniour, 13F
就夠了
就有點不一樣的反應機制,做出能反應的應該還行 難的是能做到符合High pitch或是crtical layer的光阻 評估Tool 材料商買不起,小廟供不了大佛

faniour, 14F
原料純是一回事,做成高分子是另一件事。分子量中

faniour, 15F
心值、分子量分布要做到幾個標準差內,能穩定的做

faniour, 16F
到多窄,配方的生產準度有多高,還有無塵室有多潔淨

faniour, 17F
通通影響最後產出。做出來了誰要陪練?有實績線上也

faniour, 18F
不一定敢換,沒實績的那根本是鬧笑話。
對應不同layer有很多配方,大家都是要搶first source啦

ISNAKEI, 19F
概念很簡單 做很難 聚合過程要保持均勻就很難了

sc1, 20F
要做進口替代也是當局出來當召集人再加稅排擠進口
毛利比你想像的高,加稅應該不太行
※ 編輯: tobbaco (101.102.210.72 日本), 12/07/2022 15:02:16

wtl, 21F
其實EDA也一樣 軟體做出來半導體廠不跟你合作認證也

wtl, 22F
沒用 想當半導體供應商也沒那麼簡單

victor21835, 23F
專業

faniour, 24F
不同製程光阻需要的感度跟穿透深度,跟舊世代的光

faniour, 25F
阻差異又不是一點點,不是能反應就還行,深寬比、耐

faniour, 26F
蝕、模數、直線或挖孔的特性也差蠻多的,這樣子能

faniour, 27F
當差不多的話,那5或3奈米製程跟22奈米也是差不多

faniour, 28F
的概念啊,不同的那一點點就是量產跟嘴炮的差別。

AxerBlizzard, 29F
光阻的光化學雖然是照光交聯,但其實其背後光化學

AxerBlizzard, 30F
很複雜,光一個OXE-01的光反應文獻都尚未有定論,

AxerBlizzard, 31F
其材料背後know how不只在有機合成而已。
就像有時候code 可以跑跟飛機會飛一樣
※ 編輯: tobbaco (49.97.29.6 日本), 12/07/2022 19:31:30

faniour, 32F
OXE-01都幾年了哪裡還不知道

faniour, 33F
一路出到04、05都有了,原廠還被陸廠巴假的

faniour, 34F
專利沒寫好被找洞就算了,後來還被超越

faniour, 35F
oxime ester type後來的專利申請數非常多,變來變去

faniour, 36F
大致上就是調整吸收頻譜,調整側鏈去配合溶解性與遷

faniour, 37F
移問題,改感度,改善厚膜表現,或是強化表面光交聯

faniour, 38F
。但是這是負型光阻的材料,正型用的光酸熱酸還有

faniour, 39F
酸放大劑又是另一個世界

faniour, 74F
驗證一直以來都是關鍵

faniour, 75F
你講的文獻方便給DOI或關鍵字嗎?沒有也沒關係,就

faniour, 76F
加減看看,現在不搞這個了

faniour, 77F
以光阻類的東西來說,敢寫出來的多半都不怕抄,你

faniour, 78F
覺得他逆向工程超強呢還是沒寫的小東西才是真正重點

faniour, 79F
呢?這種陰人的細節,靠經驗的know how很多吧

sc1, 80F
叫教授去研發替代品 讓學生去上班工作生活平衡啊

sc1, 81F
讓政府撥預算補貼研發光阻劑研磨劑